Термические процессы в микроэлектронике, 3-е изд.

Термические процессы в микроэлектронике, 3-е изд. | Моряков О.С.
Издательство: М.: Высшая школа
Язык: русский
Формат: djvu, pdf
Страниц: 199
Размер: 10.1 Мб

Описаны процессы изготовления полупроводниковых приборов и микросхем диффузией, планарной и элионной технологией, а также нанесения эпитаксиальных, диэлектрических и металлических пленок. Рассмотрено технологическое оборудование.

Краткое содержание

Глава 1. Основные сведения о контрольно-измерительных приборах
Глава 2. Основные сведения о технологическом процессе производства полупроводниковых приборов и микросхем
Глава 3. Термические процессы в микроэлектронике
Глава 4. Термические процессы изготовления электронно-дырочных переходов диффузией примеси
Глава 5. Элионная технология в производстве изделий микроэлектроники
Глава 6. Технологические процессы наращивания эпитаксиальных слоев
Глава 7. Основы вакуумной техники
Глава 8. Технология нанесения металлизации
Глава 9. Технология сборочных работ
Глава 10. Герметизация полупроводниковых приборов и микросхем. Контроль герметичности
Глава 11. Основы комплексной автоматизации термических процессов

Скачать : Моряков О.С. Термические процессы в микроэлектронике, 3-е изд.