Популярное
Электроника, электрика
Электроника, электрика
Журнал Радиолоцман
Журнал Радиолоцман
Журнал Радиолоцман
Журнал Радиолоцман

Методы и возможности in-line контроля тонкопленочных материалов в производстве субмикронных интегральных микросхем

Методы и возможности in-line контроля тонкопленочных материалов в производстве субмикронных интегральных микросхем

Методы и возможности in-line контроля тонкопленочных материалов в производстве субмикронных интегральных микросхем | Васильев В.Ю.
Год: 2023
Издательство: Новосибирск: Изд-во НГТУ
Язык: Русский
Формат: pdf
Страниц: 128
Размер: 10 Мб

Рассмотрена совокупность вопросов организации и использования в серийном производстве субмикронных интегральных микросхем (ИМС) методов непосредственного производственного (in-line) контроля тонкопленочных материалов – основы современных ИМС. Приведены примеры приборов контроля и возможностей их применения для характеризации процессов получения и свойств тонких пленок. Рассмотрены решения технологических задач с по мощью in-line методов на примере важнейшего узла ИМС – диэлектрической планаризируемой изоляции между транзисторным уровнем (FEOL) и первым уровнем металлизации (BEOL) микросхем.

Проанализирован подход к квалификации технологических процессов/оборудования для создания тонких пленок в производстве, изложены примеры проведения исследований технологической направленности. Показаны необходимость и возможности использования вместе с in-line методами также методов контроля at-line (в лабораториях вне производства) и off-line (в специализированных аналитических организациях). В пособии использованы и пояснены многочисленные англоязычные термины, принятые в технологиях и производстве интегральных микросхем.

Скачать : Васильев В.Ю. Методы и возможности in-line контроля тонкопленочных материалов в производстве субмикронных интегральных микросхем

Upgrade to Premium


Информация
Посетители, находящиеся в группе Гости, не могут оставлять комментарии к данной публикации.